海控科技在期刊《硅酸盐通报》第35卷第6期发表了论文《模拟浮法玻璃在线 CVD 制备 SnO2 ∶ Sb 薄膜及其性能研究》。

利用模拟在线CVD镀膜的实验设备，通过改变原料参数而在玻璃表面制备了ATO系列薄膜样品，并通过紫外-可见-近红外分光光度计、XRD、SEM及方块电阻计等测试手段研究参数变化对膜层结构与性能的影响。

结果表明：不同工艺参数下，所制备的薄膜均为四方相金红石型结构；当Sb掺杂量为3wt%，Sn/H2O 摩尔比为2∶1时，制备出的薄膜样品性能表现为：可见光透过率为79.25% 遮蔽系数为0.66，其在保证良好采光的同时具备一定遮阳及低辐射性能，可满足市场需求。

将SbCl3溶于单丁基三氯化锡中制成镀膜液，以自制镀膜液为反应前驱体， 通过APCVD 法制备的SnO2∶ Sb 低辐射薄膜玻璃，晶粒结晶度良好，分布均匀，样品的光电性能良好；锑掺杂量过大使得沉积与结晶性能变差，晶体颗粒减小，晶界增加，从而使透过率及导电性降低；而水用量的增加使得透过率大幅降低但对导电性影响较小。

图1  模拟在线 CVD 工艺流程图